电化学抛光及电解抛光原理

1、         电化学抛光:金属电解抛光原理是指利用电化学原理，将金属浸入到合适的电解质溶液中，在外加电流（包括高频直流、脉冲电流）的作用下，达到光亮化目的的工艺，又称为电抛光、电化学抛光、电解抛光、电化亮光、电解光亮化等。

2、         电解抛光原理：电化学抛光是由法拉第首先发明的，尽管已过去七十多年，且已提出十多种理论，但至今尚未得出一个完善的机理，能既简单又圆满地说明电化学抛光过程中的一切现象。氧化膜理论：在电化学抛光中，当阳极电位达到一定数值时，由于氧气大量析出，在金属阳极表面形成一层氧化层，这层氧化膜的厚度在微凸处薄而在凹处厚。由于氧化膜的形成，使阳极电位向更正的方向跃变，阳极电流密度下降，阳极金属表面由活性状态转为钝态。但是这种钝态是不稳定的，因为氧化膜在抛光液中通过化学反应是可以溶解的。当氧化膜趋于完全溶解时，电流密度又重新增大，氧化膜又重新形成、增厚。在电化学抛光中这种氧化膜的形成、增厚与氧化膜的溶解、消失反复进行，由于这种反应在微凸处进行速度快，造成微凸处金属因优先溶解而被削平，最终得到镜面光泽。